CoinScoop三星与阿斯麦(ASML)扩大战略合作，押注高数值孔径 EUV 与 12 英寸光掩模
三星电子(Samsung Electronics)与阿斯麦(ASML)宣布深化战略合作，共同推进高数值孔径(High NA) EUV 光刻及先进半导体制造。双方将开发下一代 12 英寸光掩模平台，以提升生产效率并降低成本。三星计划在 2028 年前将 High NA EUV 技术引入 DRAM 大规模量产，以优化制程路线。
摘要由 AI 依据原文撰写，并非投资建议。
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