台積電 N2 製程量產,中砂、昇陽半導體等供應鏈受惠
台積電(TSM)N2 製程正式量產,標誌著半導體製程從 FinFET 邁向 GAA 世代。隨著製程複雜度與材料規格提升,中砂、昇陽半導體、新應材及頌勝等供應鏈需求預期增加。N2 製程採用 nanosheet GAA 技術,相較 N3E 製程,在效能與功耗表現上均有顯著提升,晶片密度亦提高逾 15%。
摘要由 AI 依據原文撰寫,並非投資建議。
台積電(TSM)N2 製程正式量產,標誌著半導體製程從 FinFET 邁向 GAA 世代。隨著製程複雜度與材料規格提升,中砂、昇陽半導體、新應材及頌勝等供應鏈需求預期增加。N2 製程採用 nanosheet GAA 技術,相較 N3E 製程,在效能與功耗表現上均有顯著提升,晶片密度亦提高逾 15%。
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