黃仁勳預測中國 2030 年可實現先進光刻技術自主化

輝達（NVIDIA）執行長黃仁勳在 All-In 峰會上表示，預計中國在 2030 年前能開發出自主的先進光刻系統。他認為，一旦技術成熟，中國強大的大規模生產能力將使國產設備進入本土晶圓廠。此觀點較蔡司（Zeiss）半導體負責人 Frank Rohmund 的預測更為樂觀，後者曾稱中國研發國產 EUV 光刻機可能還需約 15 年。黃仁勳在回答中未明確限定該技術為 EUV。