ASML 推進新一代光刻機升級，鎖定大型資料中心晶片市場

ASML 計畫與主要客戶合作開發先進晶片製造設備，以滿足 NVIDIA 等公司對大型資料中心晶片的需求。ASML 即將推出下一代「高數值孔徑」EUV 光刻機，旨在製造更精細的晶片。針對目前掩模版尺寸限制，ASML 計畫於 2031 年展示更大尺寸的試驗生產線，並於 2033 年實現大規模量產能力。