CoinScoop三星计划于 2028 年将高数值孔径 EUV 技术应用于 DRAM 生产
三星计划在 2028 年前引入高数值孔径（High-NA）EUV 技术用于 DRAM 生产，此举将重塑半导体行业竞争格局。
摘要由 AI 依据原文撰写，并非投资建议。
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