ASML 推进新一代光刻机升级，布局数据中心芯片市场

ASML 计划与主要客户合作开发新方案，以满足英伟达(NVIDIA)等公司对大型数据中心芯片的需求。ASML 计划在 2031 年展示采用更大掩模版尺寸的试验生产线，并于 2033 年实现新技术的大规模量产，旨在突破目前极紫外(EUV)光刻机在芯片制造面积上的限制。