瑞银：中国十年内难实现EUV光刻机国产化，DUV量产尚需数年

据彭博社报道，瑞银集团分析师指出，中国在未来十年内难以开发出可媲美阿斯麦(ASML)顶尖EUV光刻技术的设备。分析认为，中国目前的技术成熟度约相当于阿斯麦2004年的水平。此外，瑞银预计中国有望在未来两至五年内实现浸没式DUV光刻机的大规模量产。受出口限制影响，阿斯麦目前无法向中国出售EUV设备，且中国光刻设备短期内难以在境外市场应用。