ジェンスン・フアン氏、中国は2030年までに先端リソグラフィ技術を確立すると予測

エヌビディア(NVIDIA)のジェンスン・フアン(黄仁勲)氏は、All-Inサミットにおいて、中国は2030年までに独自の先端リソグラフィシステムを構築可能であるとの見解を示した。技術が成熟すれば大規模生産能力を活かし、国内のウェハ工場への導入が進むのは時間の問題だと指摘している。これはASMLの主要サプライヤーであるツァイス(Zeiss)の幹部が示した15年という予測よりも楽観的な見方である。