サムスン電子とASMLが戦略的提携を拡大、次世代EUV技術と12インチフォトマスクに注力

サムスン電子（Samsung Electronics）とASMLは、高NA（High NA）EUV露光技術および先端半導体製造分野での戦略的提携を拡大すると発表した。両社は次世代の12インチフォトマスクプラットフォームを共同開発し、生産効率の向上とコスト削減を目指す。サムスンは2028年までにDRAMの量産にHigh NA EUVを導入する計画である。