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Jensen Huang afirma que China podrá desarrollar litografía avanzada para 2030

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Jensen Huang, CEO de NVIDIA, proyectó en la cumbre All-In que China será capaz de producir sus propios sistemas de litografía avanzada para el año 2030. Huang destacó la capacidad de producción a gran escala del país una vez que la tecnología madure. Esta visión es más optimista que la de Frank Rohmund, responsable de semiconductores en ZEISS, quien estimó que China podría tardar unos 15 años en desarrollar máquinas EUV propias.

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Los resúmenes los escribe una IA a partir del artículo original. No es asesoramiento de inversión.

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