Samsung y ASML expanden su asociación estratégica para High NA EUV y fotomáscaras de 12 pulgadas

Samsung Electronics (Samsung Electronics) y ASML (ASML) anunciaron una asociación estratégica ampliada centrada en la litografía EUV de alta apertura numérica (High NA) y la fabricación avanzada de semiconductores. La colaboración busca desarrollar una plataforma de fotomáscaras de 12 pulgadas de próxima generación para reemplazar las versiones tradicionales de 6 pulgadas, mejorando la eficiencia de producción y reduciendo costos. Samsung planea integrar la tecnología High NA EUV de ASML en la producción masiva de DRAM para 2028.